價 格：20

金屬掩膜板精密加工濺射掩膜版非標(biāo)定制標(biāo)定掩模板高精加工

華諾激光專業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，金屬精主要適合于高校、掩膜掩?？蒲兴?、板精標(biāo)定板高高科技公司的密加膜版實驗室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，工濺掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，射掩熱蒸發(fā)，非標(biāo)磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，定制用來制備OTFT、金屬精OPV、掩膜掩模OLED、板精標(biāo)定板高鈣鈦礦太陽能電池，密加膜版光電探測器，工濺場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。射掩由于都是非標(biāo)定制的產(chǎn)品，具體價格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報價。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復(fù)使用，適用于蒸鍍線路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門、科研所喜愛。芯片掩模板用于芯片線路蒸鍍使用，優(yōu)質(zhì)的材料再結(jié)合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉(zhuǎn)移，適合芯片生產(chǎn)廠家和高校實驗室。電極掩模板是一款精度在10微米以內(nèi)的金屬掩模板，該掩模板的特點是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等，集眾多優(yōu)點于一身，受到廣大院校和研究所好評。