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陽(yáng)泉回轉(zhuǎn)窯HNCR高分子脫硝工程，陽(yáng)泉窯重工業(yè)一直是回轉(zhuǎn)污染的主要行業(yè)之一，以前受限于技術(shù)，分脫許多企業(yè)的硝工煙氣處理一直勉強(qiáng)達(dá)標(biāo)，由于近些年G家對(duì)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的陽(yáng)泉窯提高，不少企業(yè)環(huán)保設(shè)備面臨升級(jí)甚至重新設(shè)計(jì)，回轉(zhuǎn)耀一在和企業(yè)的分脫溝通中了解到，不同地區(qū)的硝工標(biāo)準(zhǔn)并不完全一致，因而環(huán)保方案也不一樣。陽(yáng)泉窯耀一在脫硝方面的回轉(zhuǎn)工程遍及全國(guó)多地，歡迎隨時(shí)來(lái)電咨詢。分脫陽(yáng)泉回轉(zhuǎn)窯HNCR高分子脫硝工程

用什么辦法可以使氮氧化物降到50毫克以下呢，硝工這是陽(yáng)泉窯很多客戶關(guān)心的題目，我公司可以采用SNCR+SCR脫硝工藝，回轉(zhuǎn)煙氣氮氧化物排放控制住50毫克/立方以下，分脫目前在河北、山西、安徽、山東、內(nèi)蒙古均有成功案例，環(huán)保達(dá)標(biāo)，運(yùn)行用度不高，對(duì)于鋼廠，電廠是比較好的選擇，客戶使用起來(lái)也比較利便。

高分子脫硝系統(tǒng)主要設(shè)備按模塊化進(jìn)行設(shè)計(jì)，主要包括A水卸載模塊、A水儲(chǔ)罐模塊、A水輸送模塊、軟水儲(chǔ)罐模塊、軟水輸送模塊、PLC集中控制模塊、壓縮空氣分配模塊、氨噴射模塊、氨逃逸j測(cè)模塊等。固態(tài)高分子的脫硝工藝是一種爐內(nèi)脫硝工藝，它采用粉體氣相自動(dòng)輸送系統(tǒng)，在爐內(nèi)煙氣出口處及爐膛高溫區(qū)選擇幾處合適位置打孔將高分子脫硝劑噴入，在合適反應(yīng)溫度區(qū)將NOx還原成H2和H2O。。

高分子脫硝設(shè)備對(duì)于環(huán)保尺度要求氮氧化物降到50毫克以下的企業(yè)來(lái)說(shuō)，高分子脫硝是比較不錯(cuò)的選擇。固態(tài)高分子HNCR脫 硝工藝也是一種爐內(nèi)脫硝工藝。

負(fù)壓上料系統(tǒng)：

負(fù)壓上料裝置輸送的方式是由操縱職員通過(guò)負(fù)壓管從料包中將脫硝劑吸入料倉(cāng)內(nèi)，陽(yáng)光耀民高分子脫硝設(shè)備廠家達(dá)標(biāo)。

高分子脫硝工藝系統(tǒng)主要包括：上料系統(tǒng)、輸送系統(tǒng)、下料器系統(tǒng)、氣料分配器、噴射系統(tǒng)、電氣儀表及控制系統(tǒng)。陽(yáng)泉回轉(zhuǎn)窯HNCR高分子脫硝工程